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ITO靶材的制备通常采用物相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法。PVD法通过溅射技术将铟和锡等材料沉积在基材上，形成ITO薄膜。CVD法则是通过气相反应在基材表面生成ITO薄膜。这两种方法都能够生产高质量、均匀的ITO薄膜，但PVD法更为常见。
ITO靶材的应用领域
液晶显示器（LCD）： ITO薄膜用作液晶显示器的透明电极，通过在薄膜上施加电场来调节液晶的排列，实现像素的控制。
触摸屏： ITO作为触摸屏的导电层，使设备能够对触摸信号做出响应，实现触摸操作。
太阳能电池： ITO用作太阳能电池的透明电极，帮助太阳能电池吸收太阳能并产生电流。
有机发光二极管（OLED）： ITO薄膜在OLED中用作电极，帮助实现有机发光材料的电致发光。
导电玻璃： ITO涂覆在玻璃表面，形成导电玻璃，用于制造显示器、光伏电池等。